Machines de dépôt

Données techniques du banc :

Aucune donnée technique pour ce banc

Présentation du banc :

 

L’institut Pprime dispose d’un parc de différents bâtis de dépôts ultra-vide physique en phase vapeur (PVD) permettant la synthèse de couches minces fonctionnelles d’une large gamme de matériaux : métaux, oxydes, nitrures, et offrant la possibilité de contrôler leur microstructure sous différentes formes : empilements multicouches, nano-composites, croissance colonnaire par GLAD.

  • L’enceinte PUMA est un bâti de pulvérisation magnétron équipé de trois cibles en configuration confocale, utilisable en mode réactif, d’un four résistif jusqu’à 750°C, et de divers moyens d’analyses in situ : spectromètre de masse (MKS), courbure du substrat (dispositif optique kSA-MOSS), résistivité électrique (de type 4 pointes) et spectroscopie de réflectivité différentielle.
  • L’enceinte NORDIKO est un bâti de pulvérisation par faisceau d’ions (source RF sans filament, < 1.5 keV) utilisable en atmosphère réactive (O2, N2) et pourvue d’un canon d’assistance ionique (<1 keV). Doté d’un porte cible 4 positions chauffant (max. 700°C), des empilements multicouches sont également réalisables.
  • L’enceinte DIVA est un bâti hybride permettant de générer des flux de vapeur par évaporation (canon à électrons et cible multi-creuset) ou pulvérisation par faisceau d’ions (de type NORDIKO). Son originalité réside en la possibilité de contrôler l’orientation zénithale et azimutale du substrat grâce à un porte-objet motorisé, permettant ainsi la synthèse d’architectures complexes par dépôt de type GLAD (glancing angle deposition). Il est aussi possible d’utiliser un canon d’assistance (de type End-Hall) fort courant (<2.4 A) et basse énergie (50-200 eV) pendant le dépôt.

 

Exemples de revêtements réalisés : couches photochromes Ag-TiO2 sur support souples ; empilements anti-reflets, revêtements durs à bases de nitrures métalliques (TiN, ZrN/SiNx), nanoparticules métalliques pour applications en plasmonique (Ag, Al, Au), phases MAX (Ti2AlC), couches pour applications thermo-photovoltaïques (W/HfO2), nanostructuration de surface, etc…